近日，华工科技中央研究院与中国科学技术大学合作开展的宽禁带化合物半导体激光退火研究取得重大进展，由中国科学技术大学李家文教授为通讯作者，华工科技中央研究院半导体项目技术负责人黄伟博士为共同通讯作者所著的论文《Numerical simulation and experimental investigation of laser pulse duration effects on Ni/SiC ohmic contacts during ultraviolet laser annealing》在国际知名学术期刊《Optics and Laser Technology》正式发表，标志着我国在半导体激光制程领域的基础研究获得国际学术界认可。

《Optics and Laser Technology》是Elsevier出版社旗下专注应用光学与激光技术的国际权威期刊（中科院工程技术2区），创刊逾50年来持续聚焦激光工艺、光电子器件及先进光学工程领域的前沿研究。其最新五年影响因子达5.1，位居JCR光学领域Q2分区，以严格的学术评审和显著的工程应用导向著称，被全球学术界与工业界共同认定为激光技术产业化创新成果的首选发表平台之一。